低温恒温循环器的特点及使用说明

低温恒温循环器又称之为低温恒温反应浴。常应用于对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。并且对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等起到很大作用。

低温恒温循环器说明：

1.根据大空间制冷原理，采用全新改进蒸发器，降温更迅速、温度更均匀;

2.全新设计的专业电路，PID输出，控温更;

3.功能键均采用触摸软键;

4.温度、时间数显;

5.预约开机，延时关机;

6.具备超温、差温报警功能

7.采用风冷式全封闭压缩机组，进口压缩机，制冷量大;

8.可在工作槽内进行低温实验或将槽内冷液外引，冷却机外实验器;

低温恒温循环器主要特点

1.风冷式全封闭制冷压缩机,降温速度快。

2.微机智能控制,温度温度。

3.数显分辨率0.1℃或0.01℃，具有温度测量值偏差修正功能。

4.温度超温保护,自动切断电源并报警。

5.制冷系统过热、过流自动保护。